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星弧涂层可提供真空镀膜用的多种溅射源，从为大面积基片配置的矩形靶材到适宜研究用小面积基片配置的圆形靶材。此外，星弧独创的三轨道磁控技术可用于大批量工业生产，同时使得设备运营成本降低20%以上，维护和维修更简单。
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| 技术优势 |
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阴极采用紧凑的矩形平面设计，磁场可沿单轴或双轴运动 |
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在单个圆柱形靶材上最多有三条等离子轨道 |
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高达50%的靶材利用率 |
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法兰连接使得安装和维修更便捷 |
应用领域 |
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切削工具，模具和冲压件的多部件硬涂层 |
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玻璃，磁盘和金属带的连续涂层 |
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研发用薄膜沉积 |
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技术参数 |
型式 |
型号 |
靶材尺寸
(mm) |
膜层均匀性 |
冷却方式 |
电源 |
圆形平面 |
4" |
ф50x12 |
±5% |
间接 |
DC,
RF 或中频 AC |
8" |
ф100x12 |
±5% |
间接 |
DC,
RF 或中频 AC |
矩形平面 |
660 |
660x100x12
(长×宽×高)
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±10% |
间接 |
DC,
RF 或中频 AC |
圆柱形 |
710 |
ф80x710
(直径x长)
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±10% |
直接
/ 间接 |
DC,
RF 或中频 AC |
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