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● 磁控阴极弧源

  星弧设备参数 普通设备参数
材料离化率 接近100% 80%
靶材利用率 40% 15%
冷却效果 优良 一般

● 磁控溅射源

  星弧设备参数 普通设备参数
沉积均匀性 ±5% ±10%
靶材利用率 50% 20%
结构设计 紧凑合理 －

● 阳极层离子束源

  星弧设备参数 普通设备参数
离子能量 2000eV 1600 eV
沉积均匀性 ±5% ±10%
应用范围 清洗，离子束辅助溅射，反应物理气相沉积 －
电源 单一直流电源 －

 

● 用于研发的真空镀膜及相关设备
● 其他真空设备的更新和改造
● 涂层中心的设立

 
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