技术特点：

● 立式连续镀膜设备

● 前后两端配备装卸载室

● 与装卸载室相配的缓冲室

● 镀膜源：磁控溅射阴极和阳极层离子束

● 高速高效的生产能力

● 可实现多层膜

● 加热温度高达250°C

典型应用：

● Low-E玻璃镀膜

● 装饰性镀膜

● 各种功能性光学膜

● DLC薄膜